描台的设计与制造方案
蚀刻设备与涂胶显影设备
等离子体蚀刻机
涂胶机与显影机
其他关键设备
离子注入机
化学气相沉积设备（Cvd）
封装与测试设备
特别是在光刻机部分，报告中详细描述了当时的技术基础并规划了突破路径，从光学镜头的设计，到步进扫描台的精密控制，再到掩膜版的制造工艺，甚至包括未来可能使用的深紫外光源。
陈平安最后总结道：“按照这套方案，我们将分三个阶段推进，预计需要两年的时间，才能实现从无到有的突破，建立起完整的芯片制造体系。
这条路很难，但如果我们不开始走，就永远无法追赶世界。”
会议室里一时间鸦雀无声，所有人都在翻阅报告，试图消化里面的信息。
“这……这太详细了。”
一位从事化工研究的老教授拿着报告，手都在微微发抖。他喃喃道：“从多晶硅的提纯，到单晶拉制，再到硅片切割和抛光，这些技术我们连基础概念都没有掌握……陈主任竟然已经规划出了整套解决方案？”
另一位机械工程师则皱着眉头说道：“光刻机的步进扫描台需要微米级精度，我们的数控机床精度才刚刚达到毫米级，这个难度……简直是痴人说梦啊！”
“还有这光学镜头……”